高考化学二轮复习(新高考版) 第1部分 专题8 大题题空逐空突破(十四) 化工流程题中Ksp应用集训（含解析）

这是一份高考化学二轮复习(新高考版) 第1部分 专题8 大题题空逐空突破(十四) 化工流程题中Ksp应用集训（含解析），共5页。试卷主要包含了镓是制作高性能半导体的重要原料等内容，欢迎下载使用。

1．镓是制作高性能半导体的重要原料。工业上常从锌矿冶炼的废渣中回收镓。已知某锌矿渣主要含Zn、Si、Pb、Fe、Ga的氧化物，利用该矿渣制镓的工艺流程如下：

已知：①镓在元素周期表中位于第四周期ⅢA族，化学性质与铝相似。
②lg2＝0.3，lg3＝0.48。
③部分物质的Ksp如表所示：
物质
Zn(OH)2
Ga(OH)3
Fe(OH)2
Fe(OH)3
Ksp
1.6×10－17
2.7×10－31
8×10－16
2.8×10－39

(1)加入H2O2的目的是(用离子方程式表示)_______________________________________
________________________________________________________________________。
(2)调pH的目的是_____________________________________________________________；
室温条件下，若浸出液中各阳离子的浓度均为0.01 mol·L－1，当溶液中某种离子浓度小于1×10－5 mol·L－1时即认为该离子已完全除去，则pH应调节的范围为________________。
答案　(1)2Fe2＋＋H2O2＋2H＋===2Fe3＋＋2H2O
(2)使Fe3＋、Ga3＋沉淀完全而Zn2＋不沉淀　5.48